Buďte připraveni dopřát své pleti klid a regeneraci s Eyenlip Cica Moisture Essence Mask – pleťovou plátýnkovou maskou obohacenou o extrakt z Centella Asiatica, panthenol a sodnou hyaluronát, která zklidňuje, hydratuje a posiluje jemnou pokožku. Maska se jednoduše aplikuje a přináší pocit svěžesti a komfortu – ideální pro citlivou či namáhanou pleť.
ZKLIDNĚNÍ A OBNOVA PLETI
Maska obsahuje extrakt z Centella Asiatica, madecassosid, asiatic acid a další látky, které podporují regeneraci pokožky, snižují podráždění a dodávají pocit uvolnění.
HYDRATACE A VÝŽIVA
Glycerin, betaine a sodná hyaluronát pomáhají intenzivně hydratovat pleť, udržují vlhkost a zanechávají pokožku jemnou, pružnou a komfortní.
IDEÁLNÍ PRO CITLIVOU A NAMÁHANOU PLEŤ
Díky šetrnému složení bez alkoholu a se zaměřením na zklidnění je vhodná i pro citlivou pokožku, kterou stres, prostředí nebo make‑up mohou zatěžovat
Použití:
Masku naneste na vyčištěnou pleť a nechte působit 15–20 minut. Poté masku sundejte a zbylou esenci jemně vmasírujte do pokožky.
Upozornění:
Pouze pro vnější použití. Zabraňte přímému kontaktu s očima. Uchovávejte mimo dosah dětí a mimo přímé sluneční záření. V případě podráždění přestaňte produkt používat a konzultujte s lékařem. Nepoužívejte na rány ani na pokožku s jinými kožními problémy.
Objem: 25 ml
Země původu: Jižní Korea
Výrobce: SL Cosmetics Co., Ltd.
_________________
INCI: Water, Glycerin, Phenoxyethanol, Carbomer, Arginine, Xanthan Gum, Butylene Glycol, PEG‑60 Hydrogenated Castor Oil, Disodium EDTA, Panthenol, Allantoin, Betaine, Centella Asiatica Extract (2,900 ppb), Asiaticoside, Madecassoside, Madecassic Acid, Sodium Hyaluronate, Asiatic Acid, Hexyl Cinnamal, Fragrance.
